台积电今年将拿到最新款光刻机：计划于2025下半年推出N3X、N2制，并将在2026下半年量产N2P和A16制程

　　报道中提到，ASML首席财务官Roger Dassen在最近的一次电话会议上告诉分析师，公司两大客户台积电和英特尔将在今年年底前获得所谓的高数值孔径（高NA）极紫外（EUV）光刻系统。

　　英特尔此前已经订购了最新的高NA EUV设备，第一台设备已于12月底运往俄勒冈州的一家工厂。

　　目前尚不清楚ASML最大的EUV客户台积电何时会收到设备。

　　据悉，这些机器每台造价3.5亿欧元（3.8亿美元），重量相当于两架空中客车A320。ASML 是世界上唯一一家生产极紫外光刻技术的公司。

　　台积电此前宣布，其2nm节点进展顺利，并计划于2025下半年推出N3X、N2制，并将在2026下半年量产N2P和A16制程。

　　与3nm制程节点不同，台积电2nm制程将使用Gate-all-around FETs（GAAFET）晶体管，相比3nm工艺会有10%到15%的性能提升，还可以将功耗降低25%到30%。

　　之前，有股东发言提及近华为发展晶圆代工相当积极，向台积电董事长刘德音请教如何评断，刘德音表示，台积电着重是自己发展的速度够不够快，台积电永远有竞争对手。

　　“至于华为会不会超越台积电，本来他想请总裁魏哲家回答，后来就直接说，总裁也不用回答了，因为但根本不可能。”刘德音说道。

　　此言一出，也是引起了行业专家的吐槽，有人甚至放话，如果没有先进光刻机，你们恐怕什么也不是。